介紹化學雷射的基本原理、基本概念、主要構成、關鍵技術及應用前景，著重闡述了第一代化學雷射器的代表─HF ／ DF雷射器及第二代化學雷射器的代表－氧碘化學雷射機，除了反應國際上化學雷射三十多年來的發展，也介紹一些科技人士的實際經驗，促進化學雷射的研究工作更快發展。本書適用於大專、大學以上之化學、化工、應用化學系及對化學雷射有興趣的專業人士參考使用。
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